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? ?? ? 無(wú)錫中晶材料科技有限公司
? ? ? ? ? ?中晶納米氧化鋁拋光粉（鏡面拋光）
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我公司生產(chǎn)TWA 300納米的拋光粉是做金相拋光的**材料，同時(shí)還適合不銹鋼鏡面拋光，鈦金屬拋光，鑄鐵拋光，鋁材鏡面拋光，大理石石材鏡面拋光，油漆拋光，樹(shù)脂拋光，PCB電路板拋光，玻璃拋光，光學(xué)玻璃，眼鏡鏡片拋光，樹(shù)脂鏡片拋光，藍寶石拋光，LED拋光，鍺拋光，鋅拋光，拋光快，光亮度好，無(wú)劃傷。
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氧化鋁拋光粉用于藍寶石拋光比氧化硅的拋光速率快3倍左右，每小時(shí)能拋7-10um。
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概要與特點(diǎn)：
無(wú)錫中晶材料科技有限公司為迎合市場(chǎng)需求，采用獨特的生產(chǎn)工藝，利用國內外先進(jìn)的生產(chǎn)設備，通過(guò)嚴謹的生產(chǎn)流程制作而成的納米氧化鋁拋光粉為高純度白色粉末，是玻璃、水鉆、水晶、金屬、各種石材系列精拋納米材料。該產(chǎn)品具有以下優(yōu)越性能：
1、晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻；
2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；
3、研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。
規格:
| 項目 | 指標 | ||
| 型 號 | TWA 0.2 | TWA 0.3 | TWA 0.5 |
| 外?? 觀(guān) | 白色粉末 | 白色粉末 | 白色粉末 |
| 晶 型 | a相 | α相 | α相 |
| 含 量﹪≥ | 99.99% | 99.99% | 99.99% |
| 中位粒徑 D50 | 0.2um | 0.3um | 0.5um |
用途
1、人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動(dòng)拋光（機器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。
2、鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。
3、金屬表面拋光。
4、拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石，大理石、花岡巖、水晶、光學(xué)玻璃的表面拋光。
5、汽車(chē)油漆打磨拋光，手機外殼油漆拋光等。
用量
推薦用量為1～20％，使用者應根據不同體系經(jīng)過(guò)試驗決定*佳添加量。
包裝
20公斤/每箱（內襯PE塑料袋）
注意
1.請不要浸水。
2.請不要用濕手觸摸。
3.請佩戴防塵護罩、安全眼鏡、防護手套。
4.請不要漏出，漏出時(shí)請即時(shí)清掃干凈。
? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 中晶微米級氧化鋁拋光粉（精拋）
.【產(chǎn)品性能】
本公司生產(chǎn)的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化鋁產(chǎn)品，采用獨特的生產(chǎn)工藝，利用國內外先進(jìn)的生產(chǎn)設備，通過(guò)嚴謹的生產(chǎn)流程制作而成。該產(chǎn)品具有以下優(yōu)越性能：
●晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻；
●磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；
●研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛
玉的拋光效果，切削力強、出光快
| ? ? ? ? ? ? ? ? ? 產(chǎn)品粒度分布?微米（μm） | |||||||
| 規格型號 | ?平均粒度（D50值) | 粒度目數（＃） | 晶型 | 含量%> | 外觀(guān) | ||
| TWA1 | 1.0±0.2 | 8000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA2 | 2.2±0.4 | 6000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA3 | 3.1±0.4 | 4000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA5 | 4.7±0.5 | 3000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA9 | 6.4±0.6 | 2000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA GF1 | 7.0±0.6 | 2200＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA12 | 8.4±o.6 | 1500＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA15 | 10.5±1.5 | 800＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
【適用范圍及建議】?
①人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動(dòng)拋光（機器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。
②鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。
③金屬表面拋光。
④拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石，大理石、花岡巖、水晶等！
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? ? ? ? ? ? ? ? ? 中晶微米級氧化鋁拋光粉（中拋）
半導體行業(yè)：?jiǎn)尉Ч杵?、壓電石英晶體、化合物半導體的研拋
| 半導體領(lǐng)域 | ||||
| 【產(chǎn)品規格】 | ||||
| 產(chǎn)品型號? | 中值粒徑D50（μm） | 晶型 | 含量%> | 標準（國標） |
| TWA 20 | 14.5±1.0 | α相 | 99.62 | #800 |
| TWA 15 | 10.2±0.8 | ? ?α相 | 99.62 | #1000 |
| TWA 12 | 9.20±0.6 | α相 | 99.62 | #1200 |
| TWA 9 | 6.40±0.5 | α相 | 99.62 | #2000 |
| TWA GF1 | 7.00±0.5 | α相 | 99.62 | #2500 |
【產(chǎn)品性能】 CA專(zhuān)用半導體研磨粉，韌性高，耐磨，不易造成劃傷、生產(chǎn)時(shí)未添加化學(xué)助劑。同期和日本FUJIMI FO產(chǎn)品進(jìn)行對比，研磨效率同期提高1.5倍，表面平坦度TTV有所提高，易于清洗。
【適用范圍及建議】? 精密研磨半導體單晶硅片、化合物半導體（砷化鎵晶體，鈮酸鋰晶體等）。
? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?光學(xué)玻璃、光電晶體領(lǐng)域
【產(chǎn)品規格】
| 產(chǎn)品型號? | 晶型 | 中值粒徑D50（μm） | 標準 | ? ? 國標準 |
| TWA30 | α相 | 21.5±1.5 | #600 | W28 |
| TWA20 | ? ? α相 | 14.5±1.3 | #800 | W20 |
| TWA15 | α相 | 10.2±0.8 | #1000 | W14 |
| TWA9 | α相 | 6.4±0.6 | #2000 | W10 |
| TWA5 | α相 | 4.7±0.5.5 | #3000 | W5 |
| TWA3 | ? ? ?a相 | 3.1±0.4 | #4000 | W3.5 |
【性能】
???????TWA系列氧化鋁研磨粉，其高韌性、高磨削效率，耐磨性好，同期和綠碳化硅磨料對比，其研磨效率高出1.5~2倍，且研磨加工后工件表面品質(zhì)較高。
【適用范圍】
?????? 專(zhuān)門(mén)用于光學(xué)鏡片、手機玻璃鏡片、樹(shù)脂鏡片、手表玻璃和棱鏡、光學(xué)鏡頭等。
? ? ? ? ? ? ? ? ?中晶微米級氧化鋁拋光粉（粗拋）
? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 光學(xué)玻殼領(lǐng)域
【產(chǎn)品規格】
| 產(chǎn)品型號?CODE | 中值粒徑D50（μm） | ? ? 標準 | 國標 |
| TWA45 | 35.0±2.0 | #360 | W50 |
| TWA30 | 20.5±1.5 | #600 | W28 |
| TWA20 | 14.5±1.0 | #800 | W20 |
【特點(diǎn)】
①??外觀(guān)呈純白色，韌性高，不易壓碎，耐磨性好。
②??形狀呈六角平板狀，不容易造成劃傷，懸浮性好。
③??研磨效率和傳統研磨粉相比，速率高出2-3倍，且加工后產(chǎn)品表面平坦度好于傳統磨料，并為后期拋光加工省去了不必要的麻煩。
【適用范圍】
?????? 適用于顯像管玻殼、光學(xué)鏡片的研磨加工。特別適合大尺寸玻殼、玻屏的研磨加工。
聯(lián)系：馮總 ? 18762687182
品名：r氧化鋁拋光粉, Alumina polishing powde.氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴格粒度分布控制下, ＊小粒度能夠達到0.3um。晶體呈平板狀、 粒度分布范圍窄、不易產(chǎn)生劃痕、磨削力強。用途：1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學(xué)玻璃, 激光晶體, 光學(xué)晶體, 光學(xué)塑料, 半導體, 金屬合金, 陶瓷, 等。7) 塑膠拋光8）大理石拋光、石材拋光9）汽車(chē)漆面拋光10)石英晶體研磨拋光，晶振研磨拋光
無(wú)錫中晶平板狀氧化鋁拋光粉和拋光液使用說(shuō)明書(shū)無(wú)錫中晶材料科技有限公司，氧化鋁拋光液是以微米或納米級氧化鋁為磨料，再配以濕潤劑、表面活性劑、分散穩定劑和調整劑生產(chǎn)的一種研磨拋光材料。適用于各種精密產(chǎn)品及金相切片、手機殼等研磨拋光。公司開(kāi)發(fā)和經(jīng)營(yíng)的研磨拋光材料系列均為優(yōu)選的磨料，先進(jìn)的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴格的分級工藝保證了實(shí)際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒，其粒度組成都高于國家標準的粒度范圍要求。所有這些研磨拋光材料，粒度、品種齊全，以滿(mǎn)足用戶(hù)各種要求。通過(guò)工藝、設備、流程控制，保證了高純納米氧化鋁拋光液具有以下優(yōu)越性能：1、晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩定性好；2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；3、研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。 氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復合材料的高精度研磨及拋光等表面處理：1、手機殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學(xué)玻璃等振動(dòng)拋光（機器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。2、單晶硅片等半導體、壓電晶學(xué)、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、計算機硬盤(pán)、光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。4、汽車(chē)油漆打磨拋光，樹(shù)脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車(chē)，船舶等表面油漆出現的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來(lái)回拋磨，很快就光亮如新，無(wú)一點(diǎn)擦痕。推薦配套使用：本公司金相拋光潤滑冷卻液，樣品的拋光效果則更加＊＊。使用與用量：推薦用量為1～20％，使用者應根據不同體系經(jīng)過(guò)試驗決定＊佳添加量?！?以防少許沉淀，建議使用前先搖勻?！?使用時(shí)，以不同濃度并據不同行業(yè)的需要可用過(guò)濾清潔水加以稀釋?zhuān){制不同濃度。儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結塊，在0℃以下因產(chǎn)生不可再分散結塊而失效。包 裝：產(chǎn)品包裝有：200毫升/瓶和500毫升/瓶。1 L/瓶、5 L/桶、20 L/桶
這兩個(gè)概念主要出現在半導體加工過(guò)程中，*初的半導體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是及其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學(xué)和機械拋光的優(yōu)勢：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，**性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深?；瘜W(xué)機械拋光可以獲得較為**的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數量級，是目前能夠實(shí)現全局平面化的**有效方法。制作步驟依據機械加工原理、半導體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應多相催化理論、表面工程學(xué)、半導體化學(xué)基礎理論等，對硅單晶片化學(xué)機械拋光（CMP）機理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標明，化學(xué)機械拋光是一個(gè)復雜的多相反應，它存在著(zhù)兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應的主體。（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。硅片的化學(xué)機械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應為主的機械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。
顆粒度均勻一致，在允許的范圍之內。純度高，不含有可能引起劃痕的雜質(zhì)。有良好的分散性，以保證加工過(guò)程的穩定和**?；瘜W(xué)穩定性好，不致腐蝕工件。粉體晶型機構穩定，耐磨性及流動(dòng)性好。粒度大的拋光粉，磨削力越大，越適合加工硬度高的材料，反之粒度小的拋光粉適合加工偏軟類(lèi)的材料。所以?huà)伖夥鄱加幸粋€(gè)粒度分布范圍，平均粒徑(中心粒徑D50)的大小只決定拋光速度的快慢，而**粒徑Dmax決定拋光精度的高低。因此要達到高精度的表面拋光要求，必須控制拋光粉的粒度分布比例和范圍。
定義：人造磨料的一種。三氧化二鋁(Al2O3)含量在99%以上，并含有少量氧化鐵、氧化硅等成分，呈白色。產(chǎn)品粒度按國際標準以及各國標準生產(chǎn)，可按用戶(hù)要求粒度進(jìn)行加工。通用粒度號為 F4~F220，其化學(xué)成份視粒度大小而不同。突出的特點(diǎn)是晶體尺寸小耐沖擊，如果用自磨機 加工破碎，顆粒多為球狀顆粒，表面干潔，易于結合劑結合。
